表面/介面科學實驗室

表面/介面科學研究目標在於理解材料最外層原子與分子之間的交互作用機制，因為多數關鍵化學反應與物理現象皆發生於此。我們實驗室先期研究課題著重在利用真空光譜技術探測原子排列、缺陷位對電子結構、吸附行為的影響。主要的表徵方法為紅外吸收振動光譜與程控升溫脫附譜，並搭配位於新竹的國家同步輻射研究中心(NSRRC) 的光譜與散射技術進行更深入的探究。這些研究著眼於掌握催化、腐蝕、薄膜生長與能量轉換等過程的本質，以深化我們對材料性的理解，也為開發高效率催化劑、下一代能源材料及先進半導體元件提供重要基礎。除了使用現有的儀器，我們也著手開發客製化儀器組件，以突破量測工具對科研題目的限制。